Graphite poreux
Max Graphite fournit du graphite poreux aux fabricants opérant dans les industries des semi-conducteurs, du traitement thermique et des procédés à haute température, où la perméabilité contrôlée et la stabilité dimensionnelle sont des variables de processus directes. Notre gamme s'étend des qualités à pores fins aux qualités à pores grossiers, fournies sous forme de billettes pressées isostatiquement, de plaques et de tiges usinées, ou de composants entièrement finis — pour des volumes de prototype, de qualification et de production en série. Un traitement de haute pureté et des classes de porosité adaptées sont disponibles sur toute la gamme pour répondre aux exigences de croissance cristalline, de manipulation sous vide, de distribution de gaz et de dégazage des métaux. Chaque qualité est produite avec une architecture de pores et un contrôle des impuretés constants, adaptés aux environnements de four, de dépôt et de croissance cristalline les plus exigeants.
Qu'est-ce que le graphite poreux ?
Le graphite poreux est un matériau carboné conçu avec un réseau de pores ouverts interconnectés et contrôlés, qui combine la stabilité thermique, l'inertie chimique et la conductivité du graphite avec une perméabilité aux gaz et aux liquides. La taille des pores, leur distribution et la porosité globale sont ajustées pendant le formage et la graphitisation pour offrir une perméabilité et des caractéristiques de surface spécifiques à l'application. Max Graphite produit du graphite poreux sur toute la gamme de porosité — des qualités à pores fins pour les paliers à air de précision et les substrats sous vide aux qualités à pores grossiers pour le dégazage et la filtration — avec un traitement de haute pureté optionnel pour les environnements de semi-conducteurs et de croissance cristalline. La fourniture de composants s'étend des blocs bruts aux pièces entièrement usinées et prêtes à l'emploi.
Propriétés du graphite poreux
- Porosité ouverte contrôlée — Réseau de pores interconnectés conçu pour offrir une perméabilité prévisible pour les applications de gaz, de liquides et de vide.
- Stabilité dimensionnelle à haute température — Conserve sa forme et son intégrité mécanique dans les environnements sous vide, inertes et de fours à haute température, bien au-delà des limites des alternatives métalliques.
- Inertie chimique — Résistant à la plupart des acides, alcalis et gaz de procédé agressifs, permettant une utilisation dans les environnements de semi-conducteurs, chimiques et de métaux en fusion.
- Conductivité thermique — Conduit et distribue la chaleur efficacement, favorisant des champs de température uniformes dans les processus de croissance cristalline, de dépôt et de traitement thermique.
- Conductivité électrique — Maintient la conductivité à travers le corps poreux, permettant son utilisation comme composant chauffant ou électriquement actif.
- Usinabilité — S'usine proprement avec des tolérances serrées et des géométries complexes sans compromettre l'intégrité de la structure des pores.
- Modulabilité de la pureté — Disponible en qualités standard et de haute pureté avec des profils d'impuretés contrôlés pour les applications dans les semi-conducteurs, le SiC et les semi-conducteurs composés.
- Distribution de la taille des pores sur mesure — Le diamètre et la distribution des pores peuvent être spécifiés pour répondre aux exigences de flux d'air, de vide, d'infiltration ou de filtration.
- Faible dégazage — Convient aux environnements sous vide et ultra-propres lorsqu'il est fourni en qualité purifiée.
- Compatibilité d'imprégnation — La porosité ouverte permet une imprégnation secondaire avec des résines, des métaux ou du carbone pyrolytique pour produire des structures hybrides aux propriétés sur mesure.
Applications
- Croissance cristalline de SiC semi-conducteur — Plaques et composants en graphite poreux utilisés dans la croissance cristalline PVT pour assurer des gradients de température uniformes et un apport stable en carbone pour des lingots de SiC de haute qualité.
- Composants de four de traitement thermique — Plaques de distribution de gaz, pièces de zone chaude et composants de processus conçus pour le traitement thermique sous vide, sous atmosphère inerte et réductrice.
- Mandrins à vide pour wafers — Composants de manipulation de substrats pour le traitement des wafers semi-conducteurs et solaires, où une distribution uniforme du vide prévient la charge ponctuelle sur les substrats minces.
- Paliers aérostatiques (à air) — Corps poreux usinés avec précision pour les broches à haute vitesse de rotation et de haute précision dans les équipements de métrologie, d'usinage et d'inspection des semi-conducteurs.
- Dégazage de métaux en fusion — Rotors, arbres et diffuseurs pour le traitement des bains d'aluminium et de métaux non ferreux, où une dispersion fine des bulles améliore la propreté du métal.
- Distribution de gaz CVD et MOCVD — Têtes de diffusion et diffuseurs poreux pour une distribution uniforme des précurseurs dans les processus de dépôt de couches minces.
- Filtration et Séparation — Matériaux filtrants pour produits chimiques corrosifs, métaux en fusion et gaz à haute température, où l'inertie chimique et la stabilité dimensionnelle sont requises.
- Substrats Électrochimiques — Substrats d'électrodes et de collecteurs de courant pour les systèmes électrochimiques et de piles à combustible à haute température.
Matériaux et produits associés
Graphite isostatique