Poröser Graphit
Max Graphite liefert porösen Graphit an Hersteller, die in der Halbleiter-, Wärmebehandlungs- und der gesamten Hochtemperatur-Prozessindustrie tätig sind, wo kontrollierte Permeabilität und Dimensionsstabilität direkte Prozessvariablen sind. Unser Sortiment reicht von feinporen bis grobporen Qualitäten, geliefert als isostatisch gepresste Rohlinge, bearbeitete Platten und Stäbe oder vollständig fertige Komponenten — für Prototypen-, Qualifizierungs- und Serienproduktionsmengen. Hochreinigungsbehandlungen und maßgeschneiderte Porositätsklassen sind im gesamten Sortiment erhältlich, um den Anforderungen an Kristallwachstum, Vakuumhandhabung, Gasverteilung und Metallentgasung gerecht zu werden. Jede Qualität wird mit einer konsistenten Porenarchitektur und Verunreinigungskontrolle hergestellt, die für die anspruchsvollsten Ofen-, Abscheidungs- und Kristallwachstumsumgebungen geeignet ist.
Was ist poröser Graphit?
Poröser Graphit ist ein speziell entwickelter Kohlenstoffwerkstoff mit einem kontrollierten, miteinander verbundenen offenen Porennetzwerk, das die thermische Stabilität, chemische Inertheit und Leitfähigkeit von Graphit mit der Permeabilität für Gase und Flüssigkeiten kombiniert. Porengröße, -verteilung und Gesamtporosität werden während der Formgebung und Graphitierung angepasst, um anwendungsspezifische Permeabilität und Oberflächeneigenschaften zu erzielen. Max Graphite produziert porösen Graphit über das gesamte Porositätsspektrum hinweg — von feinporen Qualitäten für Präzisionsluftlager und Vakuumsubstrate bis hin zu grobporen Qualitäten für Entgasung und Filtration — mit optionaler Hochreinigungsbehandlung für Halbleiter- und Kristallwachstumsumgebungen. Die Komponentenlieferung reicht von Rohblöcken bis hin zu vollständig bearbeiteten, anwendungsfertigen Teilen.
Eigenschaften von porösem Graphit
- Kontrollierte offene Porosität — Miteinander verbundenes Porennetzwerk, entwickelt, um eine vorhersagbare Permeabilität für Gas-, Flüssigkeits- und Vakuumanwendungen zu gewährleisten.
- Dimensionsstabilität bei hohen Temperaturen — Behält Form und mechanische Integrität in Vakuum-, Inertgas- und Hochtemperatur-Ofenumgebungen weit über die Grenzen metallischer Alternativen hinaus.
- Chemische Inertheit — Beständig gegen die meisten Säuren, Laugen und aggressiven Prozessgase, was den Einsatz in Halbleiter-, Chemie- und Schmelzmetallumgebungen ermöglicht.
- Wärmeleitfähigkeit — Leitet und verteilt Wärme effizient, was gleichmäßige Temperaturfelder bei Kristallwachstums-, Abscheidungs- und Wärmebehandlungsprozessen unterstützt.
- Elektrische Leitfähigkeit — Behält die Leitfähigkeit durch den porösen Körper bei, was den Einsatz als beheiztes oder elektrisch aktives Bauteil ermöglicht.
- Bearbeitbarkeit — Lässt sich sauber mit engen Toleranzen und komplexen Geometrien bearbeiten, ohne die Integrität der Porenstruktur zu beeinträchtigen.
- Einstellbarkeit der Reinheit — Erhältlich in Standard- und Hochreinheitsqualitäten mit kontrollierten Verunreinigungsprofilen für Halbleiter-, SiC- und Verbindungshalbleiteranwendungen.
- Maßgeschneiderte Porengrößenverteilung — Porendurchmesser und -verteilung können an die Anforderungen für Luftstrom, Vakuum, Infiltration oder Filtration angepasst werden.
- Geringe Ausgasung — Geeignet für Vakuum- und ultrareine Umgebungen, wenn in gereinigter Qualität geliefert.
- Imprägnierbarkeit — Die offene Porosität ermöglicht eine sekundäre Imprägnierung mit Harzen, Metallen oder pyrolytischem Kohlenstoff, um Hybridstrukturen mit maßgeschneiderten Eigenschaften herzustellen.
Anwendungen
- Halbleiter-SiC-Kristallwachstum — Poröse Graphitplatten und -komponenten, die beim PVT-Kristallwachstum eingesetzt werden, um gleichmäßige Temperaturgradienten und eine stabile Kohlenstoffzufuhr für hochwertige SiC-Ingots zu gewährleisten.
- Wärmebehandlungsofenkomponenten — Gasverteilerplatten, Heizzonenteile und Prozesskomponenten, die für die Wärmebehandlung unter Vakuum, inerter und reduzierender Atmosphäre entwickelt wurden.
- Wafer-Vakuumfutter — Substrathandhabungskomponenten für die Halbleiter- und Solarwaferverarbeitung, bei denen eine gleichmäßige Vakuumverteilung Punktbelastungen auf dünnen Substraten verhindert.
- Aerostatische (Luft-)Lager — Präzisionsgefertigte poröse Körper für hochdrehende, hochpräzise Spindeln in der Messtechnik, Bearbeitung und Halbleiterinspektionsausrüstung.
- Entgasung von Metallschmelzen — Rotoren, Wellen und Diffusoren für die Behandlung von Aluminium- und Nichteisenmetallschmelzen, wobei eine feine Blasenverteilung die Reinheit des Metalls verbessert.
- CVD- und MOCVD-Gasverteilung — Poröse Duschköpfe und Diffusoren für eine gleichmäßige Vorläuferzufuhr bei Dünnschichtabscheidungsprozessen.
- Filtration und Separation — Filtermedien für korrosive Chemikalien, geschmolzene Metalle und Hochtemperaturgase, bei denen chemische Inertheit und Dimensionsstabilität gefordert sind.
- Elektrochemische Substrate — Elektroden- und Stromkollektorsubstrate für Hochtemperatur-Elektrochemie- und Brennstoffzellensysteme.
Zugehörige Materialien und Produkte
Isostatischer Graphit