Graphit- und Kohlenstoffwerkstoffe für die Halbleiterfertigung
Die Halbleiterfertigung erfordert Prozessumgebungen, die gleichzeitig extrem und präzise kontrolliert sind. Kristallwachstum, Epitaxie, Ionenimplantation und CVD laufen alle bei erhöhter Temperatur ab, häufig in korrosiven oder reaktiven Atmosphären, wo selbst Spurenkontamination die Waferqualität beeinträchtigen kann. Die Werkstoffe, die diese Prozesse auskleiden, beheizen, isolieren und stützen, müssen in jedem Schritt thermische Stabilität, chemische Beständigkeit und Maßgenauigkeit liefern.
Kohlenstoffbasierte Werkstoffe erfüllen diese Anforderungen gut. Hochreiner isostatischer Graphit widersteht den Temperaturen und korrosiven Chemikalien in Kristallwachstums- und Abscheidungsöfen, während er enge Toleranzen einhält. Kohlefilz bietet leichte, niedrig leitfähige Isolierung, die die thermische Gleichmäßigkeit und Energieeffizienz verbessert. Kohlenstoff-Kohlenstoff-(C-C)-Verbundwerkstoffe verbinden hohe Festigkeit mit geringer thermischer Masse und eignen sich dadurch für strukturelle Ofenkomponenten, die wiederholten Temperaturwechseln ausgesetzt sind.
Max Graphite liefert Graphit-, Filz- und C-C-Verbundkomponenten entlang der gesamten Halbleiterfertigungskette — von der Polysiliziumverarbeitung und dem Ingotwachstum über die Epitaxie bis zur Waferhandhabung. Wir liefern Standardverschleißteile und fertigen kundenspezifische Teile nach Kundenzeichnung.
Anwendungen
- Kristallwachstumstiegel und Suszeptoren — isostatische Graphitkomponenten für Czochralski-(CZ)- und Physical-Vapor-Transport-(PVT)-Heißzonen
- Heizelemente — resistive Graphitheizer für Kristallwachstums-, Glüh- und Abscheidungsöfen
- Hartfilz-Isolationszylinder und -platten — Thermomanagement für Kristallwachstums- und Hochtemperaturofenkammern
- Waferträger und Suszeptoren für die Epitaxie — hochreine Graphitplattformen für die epitaktische Abscheidung von Silizium und SiC
- Graphitelektroden für Polysilizium-Reaktoren — präzisionsgefertigte Elektrodensätze für CVD-Kammern im Siemens-Verfahren
- Vorrichtungen für die Ionenimplantation — Graphitkomponenten in Strahlführungsbaugruppen und Waferhandhabung
- Strukturelemente für Öfen — Platten, Stützen und Verbindungselemente aus Graphit und C-C-Verbundwerkstoff für Heißzonenbaugruppen
- Graphitfolien-Dichtungen — flexible Graphit-Dichtungslösungen für Prozesskammerverbindungen und Flansche
Materialien
Isostatischer Graphit
Graphit-Starrfilz
Graphitfolie
Kohlenstoff-Kohlenstoff-Verbundwerkstoff
Warum Max Graphite?
Max Graphite ist Einzelquellen-Lieferant für Graphit-, Kohlefilz- und C-C-Verbundkomponenten für Halbleiteranwendungen. Wir liefern Standard-Heißzonenverschleißteile und fertigen kundenspezifische Teile nach Kundenzeichnung, was die Beschaffungskomplexität bei mehreren Spezialwerkstoffen reduziert. Unsere Werkstoffe werden nach Qualitätsmaßstäben gefertigt, die mit anerkannten Industriestandards übereinstimmen, und unser technisches Team unterstützt die Werkstoffauswahl von der ersten Spezifikation bis zur Produktion. Für Fabs und Anlagen-OEMs, die hochwertige Kohlenstoffwerkstoffe zu wettbewerbsfähigem Preis suchen, bietet Max Graphite eine reaktionsschnelle Alternative zu etablierten Altanbietern.
Bereit, Graphit-, Filz- oder C-C-Verbundkomponenten für Ihren Halbleiterprozess zu beziehen? Fordern Sie ein Angebot an oder senden Sie uns Ihre Zeichnung — unser Team prüft Ihre Anforderungen und antwortet mit einem detaillierten Angebot.
